濺鍍靶材

濺鍍靶材是用於透過濺鍍製造薄膜的原料。
濺鍍是一種透過在真空中以 Ar 離子轟擊靶材並將噴射的靶材（原子）沉積在相對基板上來形成薄膜的方法，如圖所示。
靶材一般為厚度為數毫米的圓形或矩形板，並與背板黏合。