歷史

年度 歷史 內容
1977年 中央研究所(現為基礎評估研究所)開始透明導電薄膜的研究  
1980年 開始開發ITO靶材  
1985年 三池稀有金屬工廠內的靶材製造工廠完工  
1988年 以薄膜材料事業部獨立出靶材部門 組識改革,啟動新體制
1989年 擴建研發大樓 強化研發部門。採用CP法開發出密度97%的ITO。
1998年 獲得JIS Z9901(ISO9001)認證 (持續認證,ISO9001:2015)
1999年 ITO量產體系建立 新製造方法的建立實現了超高密度ITO(>99.5%)的穩定供應並擴大了市場份額
2000年 成立台灣特格股份有限公司 領先競爭對手,於台灣台中市建置靶材製造工廠。確立了台灣市場的穩定供應體制
2001年 台灣特格股份有限公司開始生產  
2004年 取得JIS Q14001:1996(ISO14001)認證 (持續認證,ISO14001:2015)
2005年 成立三井金屬韓國股份有限公司 為擴大韓國市場的市佔率,在韓國平澤市建置Bonding工廠。
2006年 獲得OHSAS18001認證。三井金屬株式會社在韓國開始生產 (持續認證,ISO45001:2018)
2010年 (第10世代) 擴建可對應第10世代(G10)的加工工廠及Bonding工廠
2011年 在三井金屬貿易(上海)有限公司設立業務據點  
2012年
  • 建立超大型ITO(全長1000~1400mm)的量產體制
  • 開始量產銷售圓柱形ITO
成功量產全長1,000~1,400mm超大型ITO燒成體
2013年
  • 次世代氧化物半導體材料IGZO2的量產體制確立
  • 在三井金屬貿易(上海)有限公司深圳分公司設立業務據點
實現靶材的均一化及大型化。透過均勻的面板照明性能作為差異化技術擴大市場佔有率。
2014年 開始量產銷售圓柱IGZO  
2015年
  • 三池靶材工廠內導入大型CIP的新廠房開始生產
  • 取得G11圓柱ITO、IGZO的AKT認證
圓柱形靶材製造、長形圓柱靶對應
圓柱形ITO加工設備導入台灣特格股份有限公司 增加供應能力
2021年 三井金屬韓國有限公司生產結束  
2022年
  • 開發部成立
  • 台灣特格股份有限公司取得ITO(10wt%)的UL2809認證
加速新材料開發
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