IGZO靶材
這是一種可以實現傳統非晶體面板結構無法實現的高可靠度和高解析面板影像，以氧化物半導體IGZO為基礎材料的氧化物靶材。
本公司已成功量產大型靶材，並提供多種成分的產品以滿足客戶需求。此外，製造方法與ITO靶材相同，是採用獨有的MMF製法。
*也可提供圓柱形靶 材。
（特性值請參考圓柱靶材的頁面）
本公司已成功量產大型靶材，並提供多種成分的產品以滿足客戶需求。此外，製造方法與ITO靶材相同，是採用獨有的MMF製法。
*也可提供圓柱形靶 材。
（特性值請參考圓柱靶材的頁面）
用途
平板顯示、觸控螢幕應用
特性値
| 規格 | 單位 | 備註 | ||
|---|---|---|---|---|
| 組成*1 | In | 1 | 按比例 | - |
| Ga | 1 | - | ||
| Zn | 1 | - | ||
| 純度 | IGZO | ≧99.99 | % | - |
| 相對密度 | ≥99.5 | % |
- |
|
*1 可製造In:Ga:Zn:O=1:1:1:4以外的各種組成。
製造流程
採用獨特燒結製造方法MMF™ 製成的超高密度濺鍍靶材
這是我們獨特的新製造方法（漿料成型技術）。
特徵
- 減少Nodule
- 減少Particles及金屬異物
- 減少異常放電(Arcing)
製造據點
日本：福岡縣大牟田市大字唐船2081（三池靶材廠）
台灣：台中市梧棲區緯五路6號（台灣特格股份有限公司）
