ITO靶材

使用我們獨特的漿料成形技術(平板-MMF製法)(圓柱型-CIP製法)實現了各種形狀和尺寸的高密度。

使用時可達到減少Nodule及Particle的需求。
對於成膜後無法進行熱處理的觸控用途也能依客戶需求提供客製化產品。

用途

  • 平面顯示器
  • 觸控面板應用

特性値

  規格 單位 備註
組成 In2O3 基準 wt.% -
SnO2 3,5,7,10 *1 -
純度 ITO ≧99.99 % -
相對密度*2 ≥98 % -
7.12 g/cm3 -

*1 標準成分。我們也可以根據要求提供其他組合。
*2 10wt%SnO2-ITO

製造流程

採用獨特燒結製造方法MMF™ 製成的超高密度濺鍍靶材

這是我們獨特的新製造方法(漿料成型技術)。

特徵

  • 減少Nodule
  • 減少Particles及金屬異物
  • 減少異常放電(Arcing)
⇒ 為客戶提高生產效率、降低成本

製造據點

日本:福岡縣大牟田市大字唐船2081(三池目標廠)
台灣:台中市無錫區緯五路6號(台特股份有限公司)